400-677-0098
熱解氮化硼化學(xué)氣相生長爐
熱解氮化硼化學(xué)氣相生長爐
產(chǎn)品描述：
用于氮化硼的化學(xué)氣相涂層與生長
應(yīng)用范圍：
OLED坩堝、PBN板材/環(huán)舟、VGF坩堝、LEC坩堝等。產(chǎn)品純度≥99.999%/99.9999%。

熱解氮化硼化學(xué)氣相生長爐技術(shù)特征

采用先進(jìn)的進(jìn)控制技術(shù)，能精密控制BCl3/NH3的流量和壓力，爐膛內(nèi)沉積氣流穩(wěn)定，壓力波動(dòng)小；

多通道工藝氣路，配合旋轉(zhuǎn)料臺(tái)，無沉積死角；

多級(jí)尾氣處理系統(tǒng)，能高效處理腐蝕性尾氣、固體副產(chǎn)物，環(huán)境友好；

可選配最新設(shè)計(jì)的防腐蝕真空機(jī)組，持續(xù)工作時(shí)間長，維修率低；

適于工藝氣氛：真空/H2/N2/Ar/BCl3/NH3。


熱解氮化硼化學(xué)氣相生長爐產(chǎn)品規(guī)格

參數(shù)\型號(hào)VCVD-0305-BNVCVD-0608-BNVCVD-0612-BNVCVD-0812-BNVCVD-1015-BNVCVD-1218-BNVCVD-1315-BNVCVD-1520-BN
工作區(qū)尺寸 φ×H（mm）300×500600×800600×1200800×12001000×15001200×18001300×15001500×2000
最高溫度（℃）2000
溫度均勻性（℃）±5±7.5/±10±7.5/±10±7.5/±10±10/±15±10/±15±10/±15±15/±20
極限真空度（Pa）1-100
壓升率（Pa/h）0.67
加熱方式電阻

以上參數(shù)可根據(jù)工藝要求進(jìn)行調(diào)整，不作為驗(yàn)收依據(jù)，具體以技術(shù)方案和協(xié)議為準(zhǔn)。

熱解氮化硼化學(xué)氣相生長爐配置選擇

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